离子镀
工艺关键词:真空气体放电、解离靶材、轰击基材
主要原理是利用气体放电现象，将薄膜材料解离成离子状态，而后沉积于基板上。
离子镀的基本镀膜系统为PVD系统，只是多加入反应性气体，使其与蒸发后的薄膜材料反应，而后沉积在基板上形成化合物，所以薄膜镀层的组成成分与原薄膜材料不同，是基材靶材的化合物。
离子镀基本上包括三个步骤 :
1. 将固态原子变成气态原子:可用真空蒸镀之各种蒸发源及各种溅射机制达到此一目的;
2. 将气态原子变成离子态,以提高原料的离子化程度(通常可达1%):可用各种离子元传送能量给原料原子,以达到始之离子化的程度;
3. 提升离子态原料所带的能量以提高薄膜的品质:可在基本上加上适当负偏压,以达到加速离子的能力。
离子镀原理
离子镀的特点如下:
1. 离子镀可在较低温度600度下进行;
2. 附着性良好;
3. 绕射性良好-带电原子能达到基本的所有表面而沉积镀层;
4. 沉积速度快,可达1~5um,而一般二级板型溅射速度只有0.01~1.0um/min;
5. 加工性及薄膜材料的选择性广,可加工除金属外,陶瓷,玻璃 ,塑胶均可,而薄膜材料的选择也很广泛,金属,合金,化合物皆可。
真空蒸发镀工艺流程
工件>镀前处理>装件>烘烤>离子轰击>预熔>蒸发沉积>冷却>取件>后处理>成品
真空溅射镀工艺流程
工件>镀前处理>装件>抽真空>烘烤、轰击>预熔>溅射沉积>冷却>取件>后处理>成品
真空离子镀工艺流程
工件>镀前处理>装件>抽真空>烘烤>离子轰击>离子沉积>冷却>取件>后处理>成品
在表面处理工艺上，真空电镀成为环保新趋势。更安全、更节能、降低噪声、减少污染排放的特点，与一般电镀不同，真空电镀更加环保，可以生产出普通电镀无法达到的光泽度很好的黑色效果。
真空电镀步骤：在工件上先喷一层底漆，再做电镀。由于工件是塑料件，在注塑时会残留空气泡，有机气体，而在放置时会吸入空气中的水分。另外，由于塑料表面不够平整，直接电镀的工件表面不光滑，光泽低，金属感差，并且会出现气泡，水泡等不良状况。喷上一层底漆以后，会形成一个光滑平整的表面，并且避免了塑料本身存在的气泡水泡的产生，使得电镀的效果得以展现。
真空电镀工艺流程复杂，非常依赖人工操作。工件（靶材）需要喷涂、装卸、再喷涂，并且也取决于工件的复杂度和数量，所以人力成本很高。真空环境下辐射小、环境污染小，真空电镀现为各行业中广泛应用。